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Three Dimensional Nanoarchitectures by Atomic Layer Deposition for Energy-Related Applications

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자료유형E-Book
개인저자Li, Zhaodong.
단체저자명The University of Wisconsin - Madison. Materials Engineering.
서명/저자사항Three Dimensional Nanoarchitectures by Atomic Layer Deposition for Energy-Related Applications.
발행사항[S.l.] : The University of Wisconsin - Madison., 2016
발행사항Ann Arbor : ProQuest Dissertations & Theses, 2016
형태사항170 p.
소장본 주기School code: 0262.
ISBN9780438001121
일반주기 Source: Dissertation Abstracts International, Volume: 79-10(E), Section: B.
Adviser: Xudong Wang.
요약Atomic layer deposition (ALD) is a cyclic, multi-step thin film chemical vapor deposition process based on sequential self-limiting surface reactions. It has been widely applied for synthesizing various three dimensional (3D) nanoscale morpholog
요약In this dissertation, a series of experimental work is presented regarding fundamental understandings and rational controls of the SPCVD process in branched nanorod (NR) synthesis, as well as the application potentials of 3D branched nanowire ar
일반주제명Materials science.
Chemical engineering.
언어영어
기본자료 저록Dissertation Abstracts International79-10B(E).
Dissertation Abstract International
대출바로가기http://www.riss.kr/pdu/ddodLink.do?id=T14996492

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