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LDR00995cam 2200253 c 4500
001000000146965
00520100507104826
008990223s1985 a 000 kor
040 ▼a 247024 ▼d 248032
0410 ▼a kor ▼b eng
0491 ▼l GM00010187 ▼f DM
05201 ▼a 569.8 ▼b 박772ㅅ
056 ▼a 569.4423
090 ▼a 569.4 ▼b 박95사
1001 ▼a 朴孝德
24510 ▼a CVD法으로 製造된 SnO2薄膜의 特性 / ▼d 朴孝德.
260 ▼a 대구 : ▼b 慶北大學校, ▼c 1985.
300 ▼a 31p: ▼b 삽도 ; ▼c 27cm.
5020 ▼a 학위논문(석사) ▼b 慶北大學校 大學院: ▼c 電子工學科 電子物性專攻, ▼d 1985
653 ▼a CVD법 ▼a SNO2박막 ▼a 전자물성 ▼a 반도체박막a박막
7400 ▼a 시비디법으로 제조된 에스엔오투박막의 특성 ▼a 반도체 박막
9500 ▼b ₩2200
965 ▼a 반도체 박막
007ta